Оптимально увлажняющая маска (шаг 8)

Откройте для себя инновационный косметический продукт — оптимально увлажняющую маску Unstress Optimal Hydration Mask, созданную израильским брендом Christina. Ее эффективная, интенсивно увлажняющая формула заботится о состоянии сухой, тусклой, утратившей упругость коже, возвращает ей мягкость и эластичность, повышает естественные защитные функции.

Состав продукта основан на экстракте зародышей пшеницы, церамидах, пептидах, а также масле календулы, которые насыщают клетки влагой, витаминами и питательными веществами. Благодаря активным природным ингредиентам, маска оказывает антиоксидантное действие, способствует клеточному метаболизму, активизирует синтез коллагена, препятствует преждевременному старению клеток. Она подарит коже профессиональный уход и станет вашим любимым косметическим продуктом.

Deionized water, Cetearyl Ethylhexanoate, Caprylic/Capric Triglyceride, 1,2-Hexanediol, Cap Glycol, Sodium hyaluronate, Glycerin, Linum Usitatissimum Seed Extract, Phenoxyethanol, Sodium Benzoate, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Stearyl Alcohol, Collagen, Glycogen, Honey Extract, Hydrolyzed Elastin, Sodium PCA, Sorbic Acid, Chlorphenesin, Tocopheryl Acetate, Maltodextrin, Polymnia Sonchifolia Root Juice, Alpha-Glucan Oligosaccharide, Lactobacillus, Butylene Glycol, Dipeptide-4, Linoleic Acid, Linolenic Acid, Oleic Acid, Tocopherol, Blue No. 1, FD&C Yellow No. 5, Ceramide 3, Olive Glycerides, Plukenetia Volubilis Seed Oil, Polyglyceryl Oleate, Cyanocobalamin, Triticum Vulgare Germ Oil, Anise Alcohol, Benzyl Alcohol, Benzyl Benzoate, Benzyl Salicylate, Citral, Farnesol, Geraniol, Isoeugenol, Limonene, Linalool